環(huán)境真空掃描電鏡

產(chǎn)品介紹

Quattro SEM環(huán)境真空掃描電鏡為具有環(huán)境真空功能的靈活、多功能高分辨率掃描電鏡，可以將成像和分析全面性能與環(huán)境模式（ESEM）相結合，使得樣品研究得以在自然狀態(tài)下進(jìn)行。

Quattro的場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)‵EG）確保了優(yōu)異的分辨率，通過(guò)不同的探測器選項，可以調節不同襯度信息，包括定向背散射、STEM和陰極熒光信息。來(lái)自多個(gè)多個(gè)探測器和探測器區分的圖像可以同步采集和顯示，使得單次掃描即可獲得樣品信息，從而降低電子束敏感樣品的束曝光并實(shí)現真正額動(dòng)態(tài)試驗。Quattro的三種真空模式使得系統具有靈活性，可以容納廣泛的樣品類(lèi)型，無(wú)論樣品導電、絕緣、潮濕或是在高溫條件下，均可獲得可靠的分析結果。Quattro*的硬件有用戶(hù)向導支持，不僅可以指導操作者，還可以直接進(jìn)行交換，輕松縮短結果獲取時(shí)間。

金屬及合金、斷口、焊點(diǎn)、拋光斷面、磁性及超導材料
陶瓷、復合材料、塑料
薄膜/涂層
地質(zhì)樣品斷面、礦物
軟材料：聚合物、藥物、濾膜、凝膠、生物組織、植物材料
顆粒、多孔材料、纖維
水合/脫水/濕潤/接觸角分析
結晶/相變
氧化/催化
材料生成
拉伸（伴隨加熱或冷卻）

發(fā)射源：高穩定型肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍

分辨率：

放大倍率：6 ~ 2,500,000×
加速電壓范圍：200V ~ 30kV
探針電流范圍：1pA – 200nA，連續可調
X-Ray工作距離：10mm，EDS檢出角35°
樣品室：從左至右為340mm寬的大存儲空間，樣品室可拓展接口數量12個(gè)，含能譜儀接口3個(gè)（其中2個(gè)處于180°對角位置）

樣品臺和樣品：

探測器系統：

同步檢測多達四種信號，包括

樣品室高真空二次電子探測器ETD
低真空二次電子探測器LVD
氣體SED（GSED，用于環(huán)境掃描模式）
樣品室內IR-CCD紅外相機（觀(guān)察樣品臺高度）
可用于樣品導航的彩色光學(xué)相機Nav-Cam™

控制系統：
操作系統：64為GUI（Windows10）、鍵盤(pán)、光學(xué)鼠標
圖像顯示：24寸LCD顯示器，WUXGA 1920×1200
定制化的圖像用戶(hù)界面，可同時(shí)激活多達4個(gè)視圖
導航蒙太奇
軟件支持Undo和Redo功能

Quattro SEM環(huán)境真空掃描電鏡特點(diǎn)與用途：

    在自然狀態(tài)下對材料進(jìn)行預案為研究，具有環(huán)境真空模式（ESEM）的*高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡；

    縮短樣品制備時(shí)間：低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對不導電和/或含水樣品直接成像和分析，樣品表面無(wú)荷電累積；
    在各種操作模式下分析導電和不導電樣品，同步獲取二次電子像和背散射電子像；
    優(yōu)良的分析性能，樣品倉可同時(shí)安裝3三個(gè)EDS探測器，其中2個(gè)EDS端口分開(kāi)180°、WDS和共勉EDS/EBSD;
    針對不導電樣品的分析性能：憑借“壓差真空系統”實(shí)現低真空模式下的EDS和EBSD分析；
    靈活、準確的優(yōu)中心樣品臺，105°傾斜角度范圍，可多方位觀(guān)察樣品；
    軟件直觀(guān)、簡(jiǎn)便易用，并配置用戶(hù)向導及Undo（撤銷(xiāo)）功能，操作步驟減少，分析更快速；
     創(chuàng )新選項，包括可伸縮RGB陰極熒光（CL）探測器、1100℃高真空熱臺和AutoScript。