場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡采用更為先進(jìn)的肖脫基場(chǎng)發(fā)射光源。采用場(chǎng)發(fā)射光源后電子束能量更強，二次電子相(也就是我們平時(shí)所說(shuō)的掃描照片)更加清晰，放大倍數在理想的情況下可以達到10萬(wàn)倍以上。同時(shí)，在進(jìn)行EBSD的測試中也具有相當的優(yōu)勢。主要由電子光學(xué)系統、信號收集處理系統、真空系統、圖像處理顯示和記錄系統、樣品室樣品臺、電源系統和計算機控制系統等組成。
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的工作原理：
掃描電子顯微鏡是以能量為1—30kV間的電子束，以光柵狀掃描方式照射到被分析試樣的表面上，利用入射電子和試樣表面物質(zhì)相互作用所產(chǎn)生的二次電子和背散射電子成像，獲得試樣表面微觀(guān)組織結構和形貌信息。配置波譜儀和能譜儀，利用所產(chǎn)生的X射線(xiàn)對試樣進(jìn)行定性和定量化學(xué)成分分析。
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的應用領(lǐng)域：
適用于納米材料精細形貌的觀(guān)察，可薛利高質(zhì)量高分辨二次電子圖像。該儀器配備的X射線(xiàn)能譜儀可對塊狀樣品做定性及半定量分析?？上驑悠肥页淙攵喾N氣體，在低真空下仍能獲得優(yōu)于2nm的高分辨圖像；可向樣品室通入水蒸氣，使含水、含油及不導樣品可直接觀(guān)察；可在樣品室內對樣品做加溫、低溫處理，對化學(xué)反應過(guò)程進(jìn)行實(shí)時(shí)觀(guān)測。該設備適用于物理、材料、半導體、超導體、化學(xué)高分子、地質(zhì)礦物、生物、醫學(xué)等領(lǐng)域的微觀(guān)研究和分析。
